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地址:宿遷市泗陽縣意楊產業科技園發展大道南側3號
真空蒸發鍍膜的基本工藝流程:
鍍前準備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預熔→蒸發→取件→膜層表面處理→成品。
真空蒸發鍍膜的特點:
優點:設備簡單易操作,制成的薄膜純度高、質量好,厚度可較準確控制,成膜速率快,效率高,薄膜生長機理比較簡單。
缺點:所形成的薄膜在基材上附著力較小,工藝重復性不夠好,不易獲得結晶結構的薄膜。
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